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一種耐高溫低熱膨脹系數的鋁基/PMOS基復合層狀材料的制備方法R已注冊

專利類型:
發(fā)明專利
專利號:
2017101490938
適用行業(yè):
物理
有效期至:
2037-06-19

參考價格:43000.00元

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